Advances and Problems on Chemical Mechanical Polishing
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雷红,雒建斌,马俊杰.化学机械抛光(CMP)技术的发展、应用及存在问题[J].润滑与密封,2002,0(4):73-76. Lei Hong Luo Jianbin Ma Junjie. Advances and Problems on Chemical Mechanical Polishing[J]. Lubrication Engineering,2002,0(4):73-76.